2020年化学机械抛光机产业深度研究报告 进口依赖度超过90%

产品概述：

 

  化学机械抛光机（简称CMP）是一种集机械学、流体力学、材料化学、精细加工、控制软件等多领域最先进的技术于一体的设备，是各种集成电路（VLSI）生产设备中较为复杂和研制难度较大的设备之一。CMP设备大多数都用在硅圆晶片生产，能使其表面变得更平坦，具有加工成本低及加工方法简单的优点。

  化学机械抛光机是半导体设备行业的细分市场之一，是半导体晶圆片抛光所用到的核心设备，特别是近年来国产化学机械抛光机设备的投产填补了我国集成电路制造业晶圆片平坦化设备的空白，对于实现我国微电子产业的跨越式发展，形成我国自主的知识产权，提升我国集成电路的整体研发水平和产业核心竞争力及打破国外微电子尖端技术垄断有着十分重大的现实意义。

  近年来，全球半导体产业的制造重心、消费市场及人才向中国快速积聚，产业重心转移趋势明显。在制造环节，台电、中芯国际等全球主要晶圆制造企业纷纷在我国建立、扩充生产线，国内半导体企业也迅速崛起，硅晶圆产能迅速扩张，推动化学机械抛光机需求量持续不断的增加。据新思界产业研究中心发布的《2020年全球及中国化学机械抛光机产业深度研究报告》，2019年我国化学机械抛光机需求量为277台。

  虽然需求量开始上涨迅速，但是受限于生产技术缺陷，国内化学机械抛光机产业化进程发展缓慢，2018年以前年产量保持在个位数。由于国内化学机械抛光机产需矛盾突出，下游客户不得不寻求海外采购途径，进口量及市场供应量一直增长。2019年，随着天津华海清科和中国电子科技集团公司第四十五研究相继实现规模化量产，国内化学机械抛光机产量达到25台，当年市场供应量为279台，进口占比超过90%。

  新思界行业研究员表示，近些年，中国化学机械抛光机生产技术难题也在不断突破，市场竞争力不断的提高。未来，随着中国化学机械抛光机生产技术水平的逐步提升，中国电子科技集团公司第四十五研究所、华海清科股份有限公司等本土化学机械抛光机生产企业将会不断崛起，企业综合竞争力也将会大幅度的提高，产品将逐渐实现规模化生产和应用。届时，外资品牌产品在中国市场的竞争力将会有所减弱，国产替代率将会逐步的提升。